特許
J-GLOBAL ID：201303075036413822

レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法

発明者：
畠山 潤

畠山 潤 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-161640
公開番号（公開出願番号）：特開2013-025211
出願日： 2011年07月25日
公開日（公表日）： 2013年02月04日
要約：
【解決手段】酸不安定基で置換された(メタ)アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び/又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位を(共)重合してなる高分子化合物と、酸発生剤を含むレジスト材料に、更にナトリウム、マグネシウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、銀、カドニウム、インジウム、錫、アンチモン、セシウム、ジルコニウム、及びハフニウムから選ばれる金属の炭素数1〜20の1〜4価のカルボン酸塩、又は該金属とβジケトン類との錯体を配合してなるレジスト材料。【効果】本発明のレジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、ラインエッジラフネスが小さい特性を示す。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸不安定基で置換された(メタ)アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び/又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位を(共)重合してなる高分子化合物と、酸発生剤と、又は酸不安定基で置換された(メタ)アクリレート、スチレンカルボン酸又はビニルナフタレンカルボン酸の繰り返し単位及び/又は酸不安定基で置換されたフェノール性水酸基を有する繰り返し単位と、酸発生剤を有する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物を含むレジスト材料に、更にナトリウム、マグネシウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、銀、カドニウム、インジウム、錫、アンチモン、セシウム、ジルコニウム、及びハフニウムから選ばれる金属の炭素数1〜20の1〜4価のカルボン酸塩、又は該金属とβジケトン類との錯体を配合してなることを特徴とするレジスト材料。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (43件)：
2H125AF15P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AH08 ,  2H125AH11 ,  2H125AH12 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH22 ,  2H125AH23 ,  2H125AH24 ,  2H125AJ02Y ,  2H125AJ04Y ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ48Y ,  2H125AJ52X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ68Y ,  2H125AJ70X ,  2H125AJ70Y ,  2H125AN36P ,  2H125AN37P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN41P ,  2H125AN42P ,  2H125AN80P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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