特許

J-GLOBAL ID：201303076154350165

肌の保湿装置

発明者： 今堀 修 ,  平井 利久 ,  須川 晃秀 ,  三原 史生 ,  秋定 昭輔 ,  渡邉 智治 ,  吉岡 浩一 ,  小林 健太郎
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (4件)： 西川 惠清 ,  水尻 勝久 ,  北出 英敏 ,  木村 豊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-052862
公開番号（公開出願番号）：特開2013-135931
出願日： 2013年03月15日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：

【課題】使用者に水補給の手間や付着物除去の手間を強いることなく、ミストを人体に曝露させて保湿することのできる保湿装置を提供する。【解決手段】本発明を、電極と、空気中の水分を基に電極に水を供給する水供給手段と、電極に高電圧を印加する電極印加手段と、を備え、電極に供給された水に高電圧を印加してナノサイズのミストを生成し、前記ナノサイズのミストを人体に曝露することを特徴とする肌の保湿装置とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

電極と、空気中の水分を基に前記電極に水を供給する水供給手段と、前記電極に高電圧を印加する電極印加手段と、を備え、前記電極に供給された前記水に高電圧を印加してナノサイズのミストを生成し、前記ナノサイズのミストを人体に曝露することを特徴とする肌の保湿装置。

IPC (2件)：

A45D 44/22 ,  A61H 33/12

FI (2件)：

A45D44/22 F ,  A61H33/12 A

Fターム (7件)：

4C094AA04 ,  4C094BA01 ,  4C094BA30 ,  4C094BB20 ,  4C094DD09 ,  4C094EE03 ,  4C094GG06

引用特許：

出願人引用 (6件)

• 空気清浄機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-159998   出願人：松下電工株式会社
• イオン発生器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-398230   出願人：ダイキン工業株式会社
• 自動給水装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-138115   出願人：松下精工株式会社
• オゾン発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-042840   出願人：株式会社ユピテック, 日本ディプラント株式会社
• 美・理容装置用ノズル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-268378   出願人：株式会社ピジョン
• 美顔器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-176464   出願人：松下電工株式会社