無機ポリシラザン、これを含有してなるシリカ膜形成用塗布液及びシリカ膜の形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：羽鳥修 , 中野廣己 , 深津有未子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-131146
公開番号（公開出願番号）：特開2013-001721
出願日： 2011年06月13日
公開日（公表日）： 2013年01月07日
要約：

【課題】水蒸気等の酸化剤中における焼成工程での収縮が小さく、シリカ膜の亀裂や半導体基板との剥離が発生しにくい無機ポリシラザン及び無機ポリシラザンを含有するシリカ膜形成用塗布液を提供すること。【解決手段】1H-NMRスペクトルにおいて、4.75ppm以上で5.4ppm未満の範囲のピーク面積をAとし、4.5ppm以上で4.75ppm未満の範囲のピーク面積をBとし、4.2ppm以上で4.5ppm未満の範囲のピーク面積をCとしたとき、A/(B+C)の値が0.9〜1.5であり、(A+B)/Cの値が4.2〜50であり、ポリスチレン換算値による質量平均分子量が2000〜20000である無機ポリシラザンをシリカ膜形成用塗布液に含有させる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

1H-NMRスペクトルにおいて、4.75ppm以上で5.4ppm未満の範囲のピーク面積をAとし、4.5ppm以上で4.75ppm未満の範囲のピーク面積をBとし、4.2ppm以上で4.5ppm未満の範囲のピーク面積をCとしたとき、A/(B+C)の値が0.9〜1.5であり、(A+B)/Cの値が4.2〜50であり、ポリスチレン換算値による質量平均分子量が2000〜20000である、無機ポリシラザン。

IPC (7件)：

C08G 77/62 , C08L 83/16 , C08K 5/00 , H01L 21/316 , C01B 21/082 , C01B 33/12 , C09D 183/16

FI (7件)：

C08G77/62 , C08L83/16 , C08K5/00 , H01L21/316 G , C01B21/082 C , C01B33/12 C , C09D183/16

Fターム (54件)：

4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072GG03 , 4G072MM36 , 4G072NN21 , 4G072RR03 , 4J002CP211 , 4J002EA016 , 4J002EA026 , 4J002EA056 , 4J002ED026 , 4J002EL066 , 4J002FD206 , 4J002GQ01 , 4J002HA03 , 4J038DL171 , 4J038JA02 , 4J038JA03 , 4J038JA25 , 4J038KA02 , 4J038KA06 , 4J038MA14 , 4J038NA03 , 4J038NA11 , 4J038NA12 , 4J038NA14 , 4J038NA19 , 4J038NA21 , 4J038PA18 , 4J038PA21 , 4J038PB09 , 4J246AA10 , 4J246AB11 , 4J246BB08X , 4J246BB080 , 4J246BB082 , 4J246CA01X , 4J246CA010 , 4J246FA151 , 4J246FA321 , 4J246FA431 , 4J246FE02 , 4J246GA01 , 4J246GB04 , 4J246GC02 , 4J246GC37 , 4J246GD08 , 4J246HA63 , 5F058BA04 , 5F058BA10 , 5F058BC02 , 5F058BD04 , 5F058BF46 , 5F058BH03

引用特許：

審査官引用 (5件)

絶縁膜形成用塗布液、それを用いた絶縁膜およびそれに用いる化合物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-231970 出願人：株式会社ADEKA
特開平1-138108
紫外線遮蔽ガラス保護膜形成用組成物および紫外線遮蔽ガラス
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-146991 出願人：電気化学工業株式会社

全件表示

前のページに戻る