特許
J-GLOBAL ID：201303080440718401
基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および反射型マスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
特許業務法人 津国
, 津国 肇
, 柳橋 泰雄
, 伊藤 佐保子
, 生川 芳徳
, 石岡 隆
, 柴田 明夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-082208
公開番号（公開出願番号）：特開2013-210576
出願日： 2012年03月30日
公開日（公表日）： 2013年10月10日
要約：
【課題】ガラス基板表面及び薄膜表面のスクラブ洗浄工程で使用するスクラブブラシの立ち上げ工程にかかる時間を短縮することができ、その結果としてガラス基板表面及び薄膜表面のスクラブ洗浄工程のスループットが向上した基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および反射型マスクの製造方法を提供する。【解決手段】基板の製造方法であって、スクラブブラシを金属含有材料からなる物体の表面に接触させて、前記スクラブブラシに付着している異物を前記物体の表面に移動させる立ち上げ工程と、前記立ち上げ工程後のスクラブブラシを用いて、前記基板の表面を洗浄するスクラブ洗浄工程と、を有することを特徴とする基板の製造方法。前記金属含有材料からなる物体は、クロムを含有する材料からなることが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の製造方法であって、
スクラブブラシを金属含有材料からなる物体の表面に接触させて、前記スクラブブラシに付着している異物を前記物体の表面に移動させる立ち上げ工程と、
前記立ち上げ工程後のスクラブブラシを用いて、前記基板の表面を洗浄するスクラブ洗浄工程と、を有することを特徴とする基板の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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