特許
J-GLOBAL ID：201303085671275903
微細構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 伊東 秀明
, 三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-076005
公開番号（公開出願番号）：特開2013-167023
出願日： 2013年04月01日
公開日（公表日）： 2013年08月29日
要約：
【課題】異方導電性部材として用いることができる微細構造体の製造方法の提供。【解決手段】1000万個/mm2以上の密度でマイクロポア貫通孔を有する基材からなり、一部の前記マイクロポア貫通孔が、前記基材の材料以外の物質で充填されている、微細構造体の製造方法であって、前記基材がアルミナであり、アルミニウム基板に、少なくとも、(A)陽極酸化処理によりマイクロポアを有する酸化皮膜を形成する処理、(B)前記(A)処理で得られた酸化皮膜から、アルミニウムを除去する処理、(C)前記(B)処理でアルミニウムが除去された酸化皮膜に存在するマイクロポアの一部を貫通させる処理、(D)前記(C)処理で貫通させたマイクロポア内に、前記酸化皮膜以外の物質を充填させる処理、(E)前記(D)処理後の酸化皮膜の表面および裏面を、化学機械研磨処理によって平滑化する表面平滑化処理、をこの順に施すことを特徴とする、微細構造体の製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
1000万個/mm2以上の密度でマイクロポア貫通孔を有する基材からなり、一部の前記マイクロポア貫通孔が、前記基材の材料以外の物質で充填されている、微細構造体の製造方法であって、
前記基材がアルミナであり、
アルミニウム基板に、少なくとも、
(A)陽極酸化処理によりマイクロポアを有する酸化皮膜を形成する処理、
(B)前記(A)処理で得られた酸化皮膜から、アルミニウムを除去する処理、
(C)前記(B)処理でアルミニウムが除去された酸化皮膜に存在するマイクロポアの一部を貫通させる処理、
(D)前記(C)処理で貫通させたマイクロポア内に、前記酸化皮膜以外の物質を充填させる処理、
(E)前記(D)処理後の酸化皮膜の表面および裏面を、化学機械研磨処理によって平滑化する表面平滑化処理、
をこの順に施すことを特徴とする、微細構造体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C25D11/04 303
, B82Y40/00
