特許
J-GLOBAL ID:201303086550808048

レーザー加工装置及びレーザー加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 松本 昂 ,  大上 寛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-102507
公開番号(公開出願番号):特開2013-230477
出願日: 2012年04月27日
公開日(公表日): 2013年11月14日
要約:
【課題】 被加工物のレーザー照射面状態によらず均一なレーザー加工を施すことが可能なレーザー加工装置及びレーザー加工方法を提供することである。【解決手段】 被加工物にレーザー加工を施すレーザー加工装置であって、被加工物を保持するチャックテーブルと、レーザー発振器と、該レーザー発振器から発振されたレーザービームを集光する集光レンズを有する加工ヘッドと、を含むレーザービーム照射手段と、該レーザービーム照射手段から該チャックテーブルに保持された被加工物に照射されたレーザービームの反射光量を検出する反射光量検出手段と、該反射光量検出手段で検出した反射光量に基づいて、該レーザー発振器から発振するレーザービームの出力を調整する出力調整手段と、を具備したことを特徴とする。【選択図】図2
請求項(抜粋):
被加工物にレーザー加工を施すレーザー加工装置であって、 被加工物を保持するチャックテーブルと、 レーザー発振器と、該レーザー発振器から発振されたレーザービームを集光する集光レンズを有する加工ヘッドと、を含むレーザービーム照射手段と、 該レーザービーム照射手段から該チャックテーブルに保持された被加工物に照射されたレーザービームの反射光量を検出する反射光量検出手段と、 該反射光量検出手段で検出した反射光量に基づいて、該レーザー発振器から発振するレーザービームの出力を調整する出力調整手段と、 を具備したことを特徴とするレーザー加工装置。
IPC (4件):
B23K 26/00 ,  B23K 26/40 ,  H01L 21/301 ,  B23K 26/38
FI (5件):
B23K26/00 M ,  B23K26/40 ,  B23K26/00 N ,  H01L21/78 B ,  B23K26/38 320
Fターム (8件):
4E068AB01 ,  4E068CA02 ,  4E068CA16 ,  4E068CA17 ,  4E068CB02 ,  4E068CC01 ,  4E068CE04 ,  4E068DA10
引用特許:
審査官引用 (4件)
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