特許
J-GLOBAL ID:201303091810948128

結晶性太陽電池上の機能的および光学的グレーデッドARC層のための多層SiN

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-504927
公開番号(公開出願番号):特表2013-524549
出願日: 2011年03月31日
公開日(公表日): 2013年06月17日
要約:
本発明の実施形態は、太陽電池および太陽電池を形成する方法を含む。具体的には、方法を使用して、太陽電池基板上に機能的特性と光学的勾配特性を合わせ持つパッシベーション/反射防止層を形成することができる。方法は、第1のプロセス混合ガスを処理チャンバ内のプロセス容積の中に流すこと、0.65W/cm2より大きな電力密度で処理チャンバ内でプラズマを生成すること、プロセス容積内の太陽電池基板上に窒化ケイ素含有インターフェイスサブレイヤを堆積すること、第2のプロセス混合ガスをプロセス容積内に流すこと、窒化ケイ素含有インターフェイスサブレイヤ上に窒化ケイ素含有バルクサブレイヤを堆積することを含むことができる。
請求項(抜粋):
太陽電池基板上にパッシベーション反射防止層を形成する方法であって、 第1のプロセス混合ガスを、処理チャンバ内のプロセス容積内に流すステップと、 前記処理チャンバ内で、0.65W/cm2より大きい電力密度でプラズマを生成するステップと、 前記プロセス容積内の太陽電池基板上に窒化ケイ素含有インターフェイスサブレイヤを堆積するステップと、 第2のプロセス混合ガスを前記プロセス容積内に流すステップと、 前記窒化ケイ素含有インターフェイスサブレイヤ上に窒化ケイ素含有バルクサブレイヤを堆積するステップと を含む方法。
IPC (2件):
H01L 31/04 ,  H01L 21/318
FI (2件):
H01L31/04 F ,  H01L21/318 M
Fターム (18件):
5F058BC08 ,  5F058BC11 ,  5F058BD01 ,  5F058BD02 ,  5F058BD10 ,  5F058BD15 ,  5F058BE04 ,  5F058BF07 ,  5F058BF15 ,  5F058BF23 ,  5F058BF30 ,  5F058BH01 ,  5F151CB12 ,  5F151CB29 ,  5F151CB30 ,  5F151DA03 ,  5F151HA03 ,  5F151HA06
引用特許:
審査官引用 (3件)

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