特許
J-GLOBAL ID：201303098242016554

ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスク

発明者：
土村 智孝

土村 智孝 について

, 
稲崎 毅

稲崎 毅 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 高松 猛 ,  尾澤 俊之 ,  長谷川 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-191955
公開番号（公開出願番号）：特開2013-054196
出願日： 2011年09月02日
公開日（公表日）： 2013年03月21日
要約：
【課題】高感度、高解像性(例えば、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス(LER))、スカムの低減、及び、現像欠陥の低減を同時に満足したパターンを形成できるネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び、フォトマスクを提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位(a)、及び、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位(b)を有する高分子化合物、並びに、(B)架橋剤を含有する、ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位(a)、及び、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位(b)を有する高分子化合物、並びに、(B)架橋剤を含有する、ネガ型感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  C08F 212/14 ,  C08F 220/38 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  C08F212/14 ,  C08F220/38 ,  H01L21/30 502R
Fターム (62件)：
2H125AE03P ,  2H125AE04P ,  2H125AE05P ,  2H125AF15P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF27P ,  2H125AF34P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AL03 ,  2H125AL11 ,  2H125AM12P ,  2H125AM15P ,  2H125AM66P ,  2H125AN02P ,  2H125AN08P ,  2H125AN21P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN61P ,  2H125AN63P ,  2H125AN67P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA28P ,  2H125BA32P ,  2H125CA08 ,  2H125CB12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC01 ,  2H125CC17 ,  4J100AB00R ,  4J100AB02R ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AR09R ,  4J100AR10R ,  4J100BA02R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA34Q ,  4J100BA55P ,  4J100BA56P ,  4J100BA56Q ,  4J100BB12P ,  4J100BB12Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC49R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (5件)
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