特許
J-GLOBAL ID：201303099853164059
インプリント装置、および、物品の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-006557
公開番号（公開出願番号）：特開2013-145854
出願日： 2012年01月16日
公開日（公表日）： 2013年07月25日
要約：
【課題】型と基板との相対位置の検出を効率化しスループットを向上させる。【解決手段】第1マーク110が形成された部分が第2マーク12を有する基板8に向けて突出するように型5を変形させる変形機構と、型と基板の上に供給された樹脂とが接触するように前記型と前記基板との間隔を調整するための駆動機構と、駆動機構が間隔を縮める動作を開始した後、型と基板上の樹脂とが接触しているがパターン領域の全体は該樹脂に接触していない段階で、第1マークと第2マークを使って型と基板との相対位置を検出する検出部とを備え、検出部は、光電変換素子と、リレー光学系と、前記光電変換素子と前記リレー光学系との間に配置された照明結像系と、を含み、照明結像系は、リレー光学系を介して基板を照明し、基板からの光によってリレー光学系と照明結像系との間に形成される第1マークおよび第2マークの中間像を光電変換素子に結像させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたパターン領域と第1マークとを有する型を、第2マークを有する基板の上に供給された樹脂に接触させて、前記パターンを該樹脂に転写するインプリント装置であって、
前記型の前記第1マークが形成された部分が前記基板に向けて突出するように前記型を変形させる変形機構と、
前記型と前記基板の上に供給された樹脂とが接触するように前記型と前記基板との間隔を調整するための駆動機構と、
前記駆動機構が前記間隔を縮める動作を開始した後、前記型の前記部分と前記基板の上の樹脂とが接触しているが前記パターン領域の全体は該樹脂に接触していない段階で、前記第1マークと前記第2マークを使って前記型と前記基板との相対位置を検出する検出部と、を備え、
前記検出部は、光電変換素子と、リレー光学系と、前記光電変換素子と前記リレー光学系との間に配置された照明結像系と、を含み、前記照明結像系は、前記リレー光学系を介して前記基板を照明し、前記基板からの光によって前記リレー光学系と前記照明結像系との間に形成される前記第1マークおよび前記第2マークの中間像を前記光電変換素子に結像させる、
ことを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 502D
, H01L21/30 506J
, H01L21/30 507L
, B29C59/02 Z
4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AP06
, 4F209AQ01
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN06
, 4F209PN13
, 5F146AA31
, 5F146ED01
, 5F146FB12
