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J-GLOBAL ID:201402201912640687   整理番号:14A0165444

ブロック共重合体シリカハイブリッド材料薄膜における垂直配向ラメラの自発的形成

Spontaneous Formation of Vertically Aligned Lamellae in Thin Films of Block Copolymer-Silica Hybrid Material
著者 (4件):
資料名:
巻: 86  号: 10  ページ: 1151-1157 (J-STAGE)  発行年: 2013年 
JST資料番号: G0450A  ISSN: 0009-2673  CODEN: BCSJA8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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有機-無機ハイブリッド材料中のメソスケールおよび相分離構造の垂直方向は,各種応用材料に関して極めて潜在的重要性を有する。しかしながら,特定の手順および処理が,このようなパターンジオメトリを生成するために必要とされる。この報告で,著者らはサーモトロピック液晶フレームワークおよびシリケートゾルを有する両親媒性ブロック共重合体からなるハイブリッド材料内のメソスコピック相分離構造の垂直配向のための単純且つ自発的プロセスを実証した。サーモトロピックおよびリオトロピック液晶の特性を組み合わせることにより,この系におけるゾル-ゲル縮合が自発的にメソスコピックラメラの垂直方向の配向につながった。ほとんどの場合,垂直分子配向は,ハイブリッド膜の,メソスケールリオトロピック液晶構造の垂直配向を促進するサーモトロピックスメクチック液晶ドメイン内に形成した。膜中の有機ブロック成分は,選択的に紫外線/オゾン処理によりエッチング可能で,その結果として,前駆ハイブリッド膜の垂直ラメラ構造を保持した幾何学的波状構造膜を提供した。金属酸化物ゾル溶液のハイブリダイゼーションによるこのアプローチは,単に前駆体ゾル含有量の体積分率を調整することにより,構造物の横方向ピッチを調整するのに有効であった。(翻訳著者抄録)
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分類 (3件):
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高分子固体の構造と形態学  ,  重合反応一般  ,  液晶一般 
物質索引 (3件):
物質索引
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引用文献 (47件):
  • 1) H.-C. Kim, S.-M. Park, W. D. Hinsberg, Chem. Rev. 2010, 110, 146.
  • 2) <i>Developments in Block Copolymer Science and Technology</i>, ed. by I. W. Hamley, John Wiley & Sons, Ltd., Chichester, <b>2004</b>. doi:10.1002/0470093943.
  • 3) Polymer Thin Films in Series in Soft Condensed Matter, ed. by O. K. C. Tsui, T. P. Russell, World Scientific Publishing Co. Pte. Ltd., Singapore, 2008, Vol. 1. doi:10.1142/6893.
  • 4) C. T. Kresge, M. E. Leonowicz, W. J. Roth, J. C. Vartuli, J. S. Beck, Nature 1992, 359, 710.
  • 5) T. Yanagisawa, T. Shimizu, K. Kuroda, C. Kato, Bull. Chem. Soc. Jpn. 1990, 63, 988.
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