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J-GLOBAL ID:201402207563427880   整理番号:14A0043992

酸化マグネシウム(100)基板上の酸窒化クロム薄膜のエピタキシャル成長およびその酸化挙動

Epitaxial Growth of Chromium Oxynitride Thin Films on Magnesium Oxide (100) Substrates and Their Oxidation Behavior
著者 (7件):
資料名:
巻: 54  号: 10  ページ: 1957-1961 (J-STAGE)  発行年: 2013年 
JST資料番号: G0668A  ISSN: 1345-9678  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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パルスレーザ被覆法を用いて,CrNの割合に対して-1.7%ミスフィットCr(N,O)薄膜をMgO基板上にエピタキシャル成長させた。X線回折パターンから,MgOの(200)反射ピーク付近にCr(N,O)の(200)反射ピークが存在する事がわかった。X線回折パターンのφスキャンにおいて,Cr(N,O)の(111)反射が90度毎に出現する狭いピークを示した。微細組織観察からは,薄膜内の結晶粒界は確認できなかった。クロム(N,O)薄膜の酸化挙動を評価するために,空気中で酸化試験を行った。酸化試験後に,Cr2O3相が873Kで生成し,またB1(NaCl型)相が1073Kで消えた。1073Kにおける酸化薄膜では,薄膜表面上にCr2O3相および酸素の組成勾配が観察された。これは,Cr(N,O)硬質コーティングが,切削工具の寿命を延ばすための酸化防止層を形成可能な事を示している。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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その他の無機化合物の結晶成長  ,  その他の無機化合物の薄膜 

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