高圧・高温下での石英の水素溶液への溶解によるSiH<sub>4</sub>とH<sub>2</sub>Oの生成

SHINOZAKI Ayako; KAGI Hiroyuki; NOGUCHI Naoki; HIRAI Hisako; OHFUJI Hiroaki; OKADA Taku; NAKANO Satoshi; YAGI Takehiko

文献

J-GLOBAL ID：201402233397609509 整理番号：14A0955285

高圧・高温下での石英の水素溶液への溶解によるSiH₄とH₂Oの生成

Formation of SiH₄ and H₂O by the dissolution of quartz in H₂ fluid under high pressure and temperature

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巻： 99 号： 7 ページ： 1265-1269 発行年： 2014年07月
JST資料番号： A0384A ISSN： 0003-004X CODEN： AMMIAY 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

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高圧・高温下での石英の水素溶液への溶解によるSiH4とH2Oの生成

高圧・高温下での石英の水素溶液への溶解によるSiH₄とH₂Oの生成