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J-GLOBAL ID:201402235919170122   整理番号:14A0114183

シリコン結晶太陽電池のための室温堆積AlOx不動態皮膜の構造分析

Structure Analyses of Room Temperature Deposited AlOx Passivation Films for Crystalline Silicon Solar Cells
著者 (20件):
資料名:
巻: 52  号: 12  ページ: 122303.1-122303.5  発行年: 2013年12月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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著者は,p形シリコン結晶(c-Si)太陽電池のための不動態化層としてオゾンベースの原子層堆積アルミニウム酸化物(AlOx)膜の構造を研究して,AlOx膜の作製条件による構造の変化に着目した。アルミニウム源(トリメチルアルミニウム)から派生するメチルや水酸基,カルボキシル基などの炭素(C)関連のグループは室温で堆積されたAlOx膜(RT-試料)でのみ見出される。堆積後の熱アニーリング(PDA)で,C関連のグループは膜から脱着し,そして,それらのスペースの一部が空孔として残った。200°Cか300°Cで堆積された膜(加熱された試料)でC関連のグループは堆積の間に脱着するので見出されなかった。C関連のグループは,RTとPDA後の加熱された試料の両方に存在しなかった時でさえ,RT-試料のAlOx膜の構造は加熱された試料のものと異なっていた。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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太陽電池 
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