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J-GLOBAL ID：201402249587750295   整理番号：14A1099690

液浸ラマン分光法による選択的イオン注入により作製された一軸歪SiGe/Siの異方性2軸応力評価

著者 (10件)： 山本章太郎 (明治大 理工) ,  小瀬村大亮 (明治大 理工) ,  富田基裕 (明治大 理工) ,  富田基裕 (日本学術振興会) ,  武内一真 (明治大 理工) ,  横川凌 (明治大 理工) ,  米倉瑛介 (東京都市大) ,  澤野憲太郎 (東京都市大) ,  野平博司 (東京都市大) ,  小椋厚志 (明治大 理工)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 75th  ページ： ROMBUNNO.19A-A16-4  発行年： 2014年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： Raman分光法 ,  イオン注入 ,  格子歪 ,  *半導体材料 ,  *ケイ素 ,  *積層構造 ,  *応力 ,  アルゴン ,  エピタクシー ,  焼なまし ,  フォノン ,  半導体薄膜 ,  *Ramanスペクトル ,  応力緩和 ,  浸漬 ,  *2軸応力 ,  一軸歪 ,  横光学フォノン ,  縦光学フォノン
準シソーラス用語： *シリコンゲルマニウム ,  液浸

分類 (2件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  無機化合物の赤外スペクトル及びRaman散乱,Ramanスペクトル  (BM08063C)

タイトルに関連する用語 (10件)： 液浸 ,  ラマン分光法 ,  イオン注入 ,  作製 ,  一軸歪 ,  SiGe ,  Si ,  異方性 ,  2軸応力 ,  評価