抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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ナノスケールのトランジスタではNegative Bias Temperature Instability(NBTI)やPositive Bias Temperature Instability(PBTI),Chanel Hot Carrier(CHC)と呼ばれる劣化現象がLSIの性能を低下させる主な要因となっている。これらの劣化現象によってトランジスタの動作速度が低下し,信号伝搬に遅延が生じることでLSIが誤動作してしまうという問題がある。本研究ではLSI内部に組み込んだ2種類のリング発振器の周期を用いてトランジスタ1個あたりの遅延の増加量を推定し,この値をもとにしてLSI内部で使用されるゲートの遅延時間を求め,その値を任意のパスに適用することにより測定回路を埋め込んでいないパスの劣化による伝搬遅延時間の増加を推定可能とした。また,劣化によって増加したトランジスタのしきい値についても推定可能にした。回路シミュレーションにより,LSI内部のパスの増加遅延時間を22.7%以内の誤差,トランジスタのしきい値の増加を0.6%以内の誤差で推定できることを確認した。(著者抄録)