特許
J-GLOBAL ID：201403006392997508

反応現像画像形成法

発明者：
大山 俊幸

大山 俊幸 について

, 
安田 めぐみ

安田 めぐみ について


出願人/特許権者：
国立大学法人横浜国立大学

国立大学法人横浜国立大学 について


代理人 (3件)： 下田 昭 ,  赤尾 謙一郎 ,  栗原 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-193009
公開番号（公開出願番号）：特開2014-048562
出願日： 2012年09月03日
公開日（公表日）： 2014年03月17日
要約：
【課題】現像液としてアルカリ水溶液を用い、現像時間が短い現像工程を経て、ポリイミド樹脂に基づくポジ型のフォトレジストを形成する。【解決手段】基板上に感光性樹脂組成物を含むフォトレジスト層を設け、所望のパターンでマスクし、このパターン面に紫外線を照射し、このフォトレジスト層をアルカリ水溶液である現像液で処理することにより、ポジ型のフォトレジストを形成する。この感光性樹脂組成物は、ポリイミド樹脂及び光酸発生剤を含有し、このポリイミド樹脂は、酸二無水物と低分子量のジアミン化合物とを反応させてなり、この酸二無水物は脂環式酸二無水物を含有する。この酸二無水物は脂環式酸二無水物と芳香族酸二無水物の混合物であってもよい。この脂環式酸二無水物と芳香族酸二無水物との比(モル比)は、好ましくは8:2〜4:6である。ジアミン化合物としては芳香族ジアミンが好ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ポリイミド樹脂及び光酸発生剤を含有するポジ型フォトレジスト構造物を形成させるための感光性樹脂組成物であって、該ポリイミド樹脂が酸二無水物と下式
IPC (4件)：
G03F 7/023 ,  G03F 7/004 ,  C08G 73/10 ,  H05K 3/28
FI (4件)：
G03F7/023 ,  G03F7/004 501 ,  C08G73/10 ,  H05K3/28 D
Fターム (41件)：
2H125AF02P ,  2H125AM77P ,  2H125AN02P ,  2H125AN21P ,  2H125AN84P ,  2H125BA28P ,  2H125CA13 ,  2H125CB05 ,  2H125CC03 ,  2H125CC21 ,  2H125CD20P ,  2H125CD31 ,  4J043PA04 ,  4J043QB31 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SB01 ,  4J043TA22 ,  4J043TA71 ,  4J043TA74 ,  4J043TB03 ,  4J043UA022 ,  4J043UA062 ,  4J043UA082 ,  4J043UA121 ,  4J043UA132 ,  4J043UB152 ,  4J043UB302 ,  4J043VA062 ,  4J043VA091 ,  4J043XA14 ,  4J043XA17 ,  4J043XB20 ,  4J043ZB22 ,  5E314AA27 ,  5E314AA36 ,  5E314BB02 ,  5E314BB11 ,  5E314CC01 ,  5E314FF05 ,  5E314GG17
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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