露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：志賀正武 , 高橋詔男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-264071
公開番号（公開出願番号）：特開2014-057105
出願日： 2013年12月20日
公開日（公表日）： 2014年03月27日
要約：

【課題】液体を介した露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXは、液体LQを介して基板P上に露光光ELを照射して、基板Pを露光するものであって、基板Pを保持する基板ホルダPHを有し、この基板ホルダPHに基板Pを保持して移動可能な基板ステージPSTと、基板ホルダPHの温度調整を行う温調システム60とを備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

液体を介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、前記基板を保持する基板保持部材を有し、該基板保持部材に前記基板を保持して移動可能な基板ステージと、前記基板保持部材の温度調整を行う温調システムとを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/30 516E , H01L21/30 515G , H01L21/30 515D

Fターム (8件)：

5F146BA04 , 5F146BA05 , 5F146BA11 , 5F146CC08 , 5F146DA26 , 5F146DA33 , 5F146DA34 , 5F146DB02

引用特許：

審査官引用 (8件)

液浸型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121757 出願人：株式会社ニコン
特開平3-003316
ウェハ保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-347320 出願人：株式会社ニコン

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