特許

J-GLOBAL ID：201403013938198373

リソグラフィー用重合体の製造方法、リソグラフィー用重合体、レジスト組成物の製造方法、ならびにパターンが形成された基板の製造方法

発明者： 安田 敦 ,  前田 晋一 ,  押切 友也
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-102666
公開番号（公開出願番号）：特開2014-015601
出願日： 2013年05月15日
公開日（公表日）： 2014年01月30日
要約：

【課題】分子量の調節や重合体末端の機能化が容易で、安定性が良好な重合体を提供する。【解決手段】反応器内で塩基性化合物共存下、重合開始剤、連鎖移動能鎖を有する化合物および単量体を重合反応させるリソグラフィー用重合体を製造する方法。また、当該製造方法によって得られる全構成単位数に対する有機酸の含有率が2モル%以下であるリソグラフィー用重合体。また、当該リソグラフィー用重合体、および活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

反応器内で塩基性化合物共存下、重合開始剤、連鎖移動能を有する化合物および単量体を重合反応させるリソグラフィー用重合体を製造する方法。

IPC (4件)：

C08F 2/44 ,  G03F 7/039 ,  C08F 2/38 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

C08F2/44 B ,  G03F7/039 601 ,  C08F2/38 ,  H01L21/30 502R

Fターム (20件)：

2H125AF17P ,  2H125AF35P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN39P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125EA01P ,  4J011AA05 ,  4J011NA25 ,  4J011NB04 ,  4J011NB05 ,  4J011PA36 ,  4J011PB24 ,  4J011PB40 ,  4J011PC08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• レジスト用ポリマーの製造方法、およびポジ型感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-110088   出願人：東レ株式会社
• レジスト用共重合体の製造方法。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-309059   出願人：三菱レイヨン株式会社
• 高分子化合物の製造方法、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-256383   出願人：東京応化工業株式会社