特許
J-GLOBAL ID：201003079540776085
レジスト用共重合体の製造方法。
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-309059
公開番号（公開出願番号）：特開2010-132752
出願日： 2008年12月03日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：
【課題】組成と物性の安定したレジスト用共重合体を供給する。【解決手段】本発明は、アセタール基を有する(メタ)アクリル系単量体と、該単量体と共重合可能な他の(メタ)アクリル系単量体とを、上記単量体の合計量100質量部に対して0.016質量部以上の塩基性化合物共存下で重合するレジスト用共重合体の製造方法を提供する。さらに、本発明は、上記レジスト用共重合体を含むレジスト用組成物を提供する。さらに、本発明は、上記レジスト組成物と光酸発生剤とを含む組成物を、被加工基板上に塗布しレジスト膜を形成する工程と、上記レジスト膜に450nm以下の波長の光を照射して潜像を形成する工程と、上記潜像が形成されたレジスト膜を現像液で現像処理する工程とを有する、パターンが形成された基板の製造方法を提供する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
アセタール基を有する(メタ)アクリル系単量体と、該単量体と共重合可能な他の(メタ)アクリル系単量体とを、前記単量体の合計量100質量部に対して0.016質量部以上の塩基性化合物共存下で重合するレジスト用共重合体の製造方法。
IPC (3件)：
C08F 2/44
, G03F 7/039
, H01L 21/027
C08F2/44 B
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC04
, 2H025FA17
, 4J011AA05
, 4J011PA36
, 4J011PB40
, 4J011PC02
, 4J011QA03
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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