特許
J-GLOBAL ID：201403022616516379

フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法

発明者：
禮場 強

禮場 強 について

, 
木村 亮

木村 亮 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (3件)： 小島 清路 ,  萩野 義昇 ,  平岩 康幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-163044
公開番号（公開出願番号）：特開2014-021454
出願日： 2012年07月23日
公開日（公表日）： 2014年02月03日
要約：
【課題】フォトレジスト用樹脂に対する熱履歴を従来よりも少なくでき、且つ効率良くフォトレジスト用樹脂溶液を製造できるフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。【解決手段】本フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、重合性化合物を重合させることにより、フォトレジスト用の樹脂を含有する樹脂溶液を調製する樹脂溶液調製工程と、樹脂溶液に含まれる樹脂を再沈殿により回収する回収工程と、回収した樹脂を濾過し、洗浄溶剤を用いて洗浄することにより、樹脂及び洗浄溶剤を含む湿粉を得る洗浄工程と、湿粉とフォトレジスト用溶剤とを混合し、湿粉に含まれる樹脂をフォトレジスト用溶剤に溶解する溶解工程とを備えており、溶解工程における湿粉に含まれる洗浄溶剤の含液率は、樹脂及び洗浄溶剤の合計を100質量%とした場合に25〜80質量%であり、溶解工程においては、湿粉に含まれる樹脂をフォトレジスト溶剤に減圧下で溶解する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(1)重合性化合物を重合させることにより、フォトレジスト用の樹脂を含有する樹脂溶液を調製する樹脂溶液調製工程と、 (2)前記樹脂溶液に含まれる前記樹脂を再沈殿により回収する回収工程と、 (3)回収した前記樹脂を濾過し、洗浄溶剤を用いて洗浄することにより、前記樹脂及び前記洗浄溶剤を含む湿粉を得る洗浄工程と、 (4)前記湿粉とフォトレジスト用溶剤とを混合し、前記湿粉に含まれる前記樹脂を前記フォトレジスト用溶剤に溶解する溶解工程と、を備えるフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法であって、 前記溶解工程における前記湿粉に含まれる前記洗浄溶剤の含液率は、前記樹脂及び前記洗浄溶剤の合計を100質量%とした場合に25〜80質量%であり、 前記溶解工程においては、前記湿粉に含まれる前記樹脂を前記フォトレジスト溶剤に減圧下で溶解することを特徴とするフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法。
IPC (2件)：
G03F 7/26 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F7/26 ,  H01L21/30 502R
Fターム (9件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA10 ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AN39P ,  2H125CA12 ,  2H125EA01P
引用特許：
審査官引用 (4件)
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