レジスト材料用重合体及びその製造方法、レジスト材料、パターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-133797
公開番号（公開出願番号）：特開2007-302809
出願日： 2006年05月12日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：

【解決手段】予め反応容器に連鎖移動剤を含有する溶液を入れて重合温度に保持したところへ、単量体及び重合開始剤を含有する溶液を連続的又は断続的に滴下してラジカル重合させることを特徴とするレジスト材料用重合体の製造方法。【効果】本発明の製造方法によって製造される重合体は、レジスト溶剤への難溶解性成分が少なく、この重合体をレジスト材料用ベース樹脂、特にArFエキシマレーザーを光源としたフォトリソグラフィーにおいて用いる化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として用いることによって、フォトリソグラフィーにおける欠陥数が極めて少ない、微細パターンの形成に有用なレジスト材料が得られる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

予め反応容器に連鎖移動剤を含有する溶液を入れて重合温度に保持したところへ、単量体及び重合開始剤を含有する溶液を連続的又は断続的に滴下してラジカル重合させることを特徴とするレジスト材料用重合体の製造方法。

IPC (4件)：

C08F 2/38 , H01L 21/027 , G03F 7/039 , C08F 20/06

FI (4件)：

C08F2/38 , H01L21/30 502R , G03F7/039 601 , C08F20/06

Fターム (24件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J011AA05 , 4J011NA25 , 4J011NB04 , 4J011PC02 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA11Q , 4J100BA20Q , 4J100BC09P , 4J100BC53Q , 4J100BC58Q , 4J100CA04 , 4J100FA04 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (10件)

特開平4-39665号公報
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-050264 出願人：富士通株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-312722 出願人：富士通株式会社

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審査官引用 (5件)

ポジ型感光性アニオン電着塗料樹脂組成物、これを用いた電着塗装浴、電着塗装法及びプリント配線板の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-258239 出願人：日立化成工業株式会社
レジスト用(共)重合体およびレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-392856 出願人：三菱レイヨン株式会社
特開昭63-230758

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