特許
J-GLOBAL ID:201403023929372293

化合物半導体ESD保護装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 村上 智司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-096857
公開番号(公開出願番号):特開2014-130991
出願日: 2013年05月02日
公開日(公表日): 2014年07月10日
要約:
【課題】マルチゲートE-FETを用いた化合物半導体ESD保護装置を提供する。【解決手段】マルチゲートE-FETを用いた3タイプの化合物半導体ESD保護装置に関する。第一タイプの化合物半導体ESD保護装置では、ソース電極は少なくとも1つの第1の抵抗150を介し、複数のゲート電極に接続され、ドレイン電極は少なくとも1つの第2の抵抗151を介し、該複数のゲート電極に接続される。第二タイプの化合物半導体ESD保護装置では、複数のゲート電極は、少なくとも1つの第4の抵抗140を介し、隣接する2つのゲート電極間のゲート間領域の内の1つに接続される。第三タイプの化合物半導体ESD保護装置では、複数のゲート電極が少なくとも1つの第7の抵抗を介し、ソース電極又はドレイン電極に接続される。3タイプの化合物半導体ESD保護装置においては、どの2つのゲート電極も抵抗により接続できる。【選択図】図3C
請求項(抜粋):
ソース電極と、ドレイン電極と、前記ソース電極とドレイン電極との間に設けられた複数のゲート電極とを備えるマルチゲートエンハンスメント型電界効果トランジスタ(E-FET)と、 前記ソース電極が、それを介して前記複数のゲート電極のうちの少なくとも1つに接続される少なくとも1つの第1の抵抗と、 前記ドレイン電極が、それを介して前記複数のゲート電極のうちの少なくとも1つに接続される少なくとも1つの第2の抵抗と、 を備える化合物半導体静電放電(ESD)保護装置。
IPC (10件):
H01L 29/808 ,  H01L 21/338 ,  H01L 21/337 ,  H01L 29/812 ,  H01L 27/095 ,  H01L 29/778 ,  H01L 29/872 ,  H01L 29/47 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822
FI (7件):
H01L29/80 P ,  H01L29/80 E ,  H01L29/80 H ,  H01L29/80 W ,  H01L29/48 F ,  H01L29/48 D ,  H01L27/04 H
Fターム (25件):
4M104AA04 ,  4M104AA05 ,  4M104FF11 ,  4M104GG12 ,  4M104GG13 ,  4M104GG19 ,  4M104HH20 ,  5F038BE07 ,  5F038BH02 ,  5F038BH13 ,  5F038CA02 ,  5F038DF02 ,  5F038EZ02 ,  5F038EZ08 ,  5F038EZ20 ,  5F102FA06 ,  5F102GA17 ,  5F102GB01 ,  5F102GC01 ,  5F102GC05 ,  5F102GD01 ,  5F102GL04 ,  5F102GL05 ,  5F102GQ01 ,  5F102GS09
引用特許:
審査官引用 (5件)
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