特許

J-GLOBAL ID：201403028038609774

電磁波照射装置

発明者： 陳 顕鋒
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-097759
公開番号（公開出願番号）：特開2014-220331
出願日： 2013年05月07日
公開日（公表日）： 2014年11月20日
要約：

【課題】均一性が高い膜を作製可能な電磁波照射装置を提供すること。【解決手段】本電磁波照射装置は、基板の一方の側に形成された被加熱膜を加熱するために、前記基板の一方の側の反対側である他方の側から電磁波を照射する電磁波照射手段と、前記基板の一方の側に設置され、前記被加熱膜の表面温度を計測する温度計測手段と、を有し、前記温度計測手段の計測結果に基づいて、前記基板の他方の側から照射される電磁波のエネルギーを制御する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板の一方の側に形成された被加熱膜を加熱するために、前記基板の一方の側の反対側である他方の側から電磁波を照射する電磁波照射手段と、 前記基板の一方の側に設置され、前記被加熱膜の表面温度を計測する温度計測手段と、を有し、 前記温度計測手段の計測結果に基づいて、前記基板の他方の側から照射される電磁波のエネルギーを制御する電磁波照射装置。

IPC (3件)：

H01L 21/268 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/316

FI (3件)：

H01L21/268 T ,  H01L21/20 ,  H01L21/316 P

Fターム (39件)：

5F058BA04 ,  5F058BA10 ,  5F058BA11 ,  5F058BA20 ,  5F058BC03 ,  5F058BC04 ,  5F058BF46 ,  5F058BF75 ,  5F058BF77 ,  5F058BF80 ,  5F058BG03 ,  5F058BH01 ,  5F058BJ04 ,  5F152AA08 ,  5F152AA17 ,  5F152CC02 ,  5F152CC03 ,  5F152CC08 ,  5F152CD02 ,  5F152CD13 ,  5F152CD16 ,  5F152CD17 ,  5F152CE05 ,  5F152CE10 ,  5F152CE16 ,  5F152CE24 ,  5F152EE01 ,  5F152EE02 ,  5F152EE10 ,  5F152FF09 ,  5F152FF45 ,  5F152FG01 ,  5F152FG03 ,  5F152FG13 ,  5F152FG18 ,  5F152FG19 ,  5F152FG21 ,  5F152FG29 ,  5F152FH03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板加熱方法及び基板加熱装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-235603   出願人：ソニー株式会社
• 薄膜半導体装置の製造方法および製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-108056   出願人：セイコーエプソン株式会社, 三菱電機株式会社
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-067918   出願人：大日本スクリーン製造株式会社