機能性膜及びその成膜装置、成膜方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：鈴木正剛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-214009
特許番号：特許第5458277号
出願日： 2012年09月27日
要約：

【課題】優れた反射防止効果と基材に対する高い密着性とを備えた機能性膜を提供する。【解決手段】真空排気された真空容器10内で基板Wの被処理面に向けフッ素系モノマーを供給して当該被処理面に蒸着させるときに、蒸着の開始から終了までの間、イオン照射手段15で発生させたイオンを当該被処理面に向けて照射して当該基板W及び成膜中の膜面に化学的活性点を形成させてフッ素系モノマーの重合を促進させ、且つ、当該被処理面を改質するとともに、イオンを発生させるために印加される電圧を逐次変化させて、膜の屈折率が基板W側から膜表面に向けて連続的に変化する遷移層となるように成膜する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

【請求項1】基材の被処理面を成膜するための成膜装置であって、真空排気が可能な容器と、前記容器内に配置された基材の被処理面に向けフッ素系モノマーを供給して当該被処理面に蒸着させるための蒸着手段と、発生させたイオンを前記基材の被処理面に向けて照射するための照射手段と、前記イオンを発生させるため前記照射手段に印加される電圧を逐次変化させるための制御手段と、を備え、前記照射手段は、真空排気された前記容器内で行われる前記被処理面への蒸着の開始から終了までの間、当該被処理面に向けてイオンを照射して当該基材及び成膜中の膜面に化学的活性点を形成させて前記フッ素系モノマーの重合を促進させるとともに、当該被処理面を改質して成膜するように構成されており、前記制御手段は、前記被処理面に蒸着された膜の屈折率が前記基材側から当該膜表面に向けて高屈折率から低屈折率へと連続的に変化する遷移層として成膜されるように、前記照射手段に印加される電圧を所定の値から0[V]までの間で一定の割合で減少させることを特徴とする、成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 14/12 ( 200 6.01) , C23C 14/48 ( 200 6.01) , G02B 1/11 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C23C 14/12 , C23C 14/48 D , G02B 1/10 A

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平1-282175
無機物の表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-235027 出願人：株式会社豊田中央研究所
特開平4-048068

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審査官引用 (7件)

特開平1-282175
無機物の表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-235027 出願人：株式会社豊田中央研究所
特開平4-048068

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引用文献：

出願人引用 (2件)

審査官引用 (2件)

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