特許
J-GLOBAL ID：201403046960804231

研磨用組成物

発明者：
鈴木 章太

鈴木 章太 について

, 
井澤 由裕

井澤 由裕 について

, 
篠田 敏男

篠田 敏男 について


出願人/特許権者：
株式会社フジミインコーポレーテッド

株式会社フジミインコーポレーテッド について


代理人 (1件)： 八田国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-215994
公開番号（公開出願番号）：特開2014-069260
出願日： 2012年09月28日
公開日（公表日）： 2014年04月21日
要約：
【課題】基板を研磨する用途で使用される研磨用組成物において、アルカリpHにおける保存安定性の向上と基板の研磨する際の研磨速度の向上を両立させうる研磨用組成物を提供する。【解決手段】基板を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、砥粒と、アルカリ化合物と、水とを含み、前記砥粒がアニオン性官能基を担持し、かつ前記研磨用組成物のpHが7.0以上である、研磨用組成物。前記砥粒の表面のゼータ電位は-20mV以下であることが好ましく、また、前記アルカリ化合物の含有量は0.01〜5.0重量%であることが好ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基板を研磨する用途で使用される研磨用組成物であって、 砥粒と、 アルカリ化合物と、 水と、 を含み、前記砥粒がアニオン性官能基を担持し、かつ前記研磨用組成物のpHが7.0以上である、研磨用組成物。
IPC (4件)：
B24B 37/00 ,  H01L 21/304 ,  C09K 3/14 ,  G11B 5/84
FI (5件)：
B24B37/00 H ,  H01L21/304 621D ,  C09K3/14 550C ,  C09K3/14 550Z ,  G11B5/84 A
Fターム (33件)：
3C058AA07 ,  3C058CA05 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14 ,  5F057AA14 ,  5F057AA29 ,  5F057BA18 ,  5F057BA21 ,  5F057BB23 ,  5F057BB25 ,  5F057BB26 ,  5F057BB27 ,  5F057BB32 ,  5F057BB33 ,  5F057BB34 ,  5F057BB37 ,  5F057BB38 ,  5F057CA12 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA16 ,  5F057EA21 ,  5F057EA29 ,  5F057EA33
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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