特許

J-GLOBAL ID：201403048588448620

グラフェンの製造方法

発明者： 野田 優 ,  増田 竜也 ,  岡部 隆志
出願人/特許権者： 学校法人早稲田大学 ,  JX日鉱日石エネルギー株式会社
代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  清水 義憲 ,  平野 裕之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-047141
公開番号（公開出願番号）：特開2014-172788
出願日： 2013年03月08日
公開日（公表日）： 2014年09月22日
要約：

【課題】格子欠陥が少なく大きいグラフェンの単結晶を製造することが可能なグラフェンの製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係るグラフェンの製造方法の一態様は、化学気相蒸着法を用いたグラフェンの製造方法であって、第一基板の表面を被覆する金属触媒層と、金属触媒層に対向する第二基板との間に、炭素含有組成物のガスを供給する工程を備え、炭素含有組成物が、不飽和結合又は未結合手を有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

化学気相蒸着法を用いたグラフェンの製造方法であって、 第一基板の表面を被覆する金属触媒層と、前記金属触媒層に対向する第二基板との間に、炭素含有組成物のガスを供給する工程を備え、 前記炭素含有組成物が、不飽和結合又は未結合手を有する、 グラフェンの製造方法。

IPC (1件)：

C01B 31/02

FI (1件)：

C01B31/02 101Z

Fターム (11件)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC25 ,  4G146BC34B ,  4G146BC37B ,  4G146BC38B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• カーボンナノファイバの製造方法およびその方法を実施するためのカーボンナノファイバ製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-278881   出願人：ソナック株式会社
• グラフェンシート及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-277065   出願人：三星電子株式会社
• グラフェン膜のエピタキシャル成長方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-047225   出願人：独立行政法人物質・材料研究機構