特許
J-GLOBAL ID：201403048983635057

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者：
市川 幸司

市川 幸司 について

, 
吉田 昌史

吉田 昌史 について

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山口 訓史

山口 訓史 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-024160
公開番号（公開出願番号）：特開2014-002355
出願日： 2013年02月12日
公開日（公表日）： 2014年01月09日
要約：
【課題】DOFが良好なネガ型レジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】2-アルキルアンダマンタンを側鎖に有するメタクリル酸エステル構造単位及び特定の2-アルキル置換単環構造を側鎖に有するメタクリル酸エステル構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種と、フッ素原子を含む構造単位とを有する樹脂(A1)、分子内にフッ素原子を有さない樹脂(A2)、酸発生剤(B)、並びに、式(I)で表される化合物(I)を含有するレジスト組成物。[式中、RD1及びRD2は炭素数1〜12の炭化水素基等を、m’及びn’は0〜4の整数を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(a1-1)で表される構造単位及び式(a1-2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種と、フッ素原子を含む構造単位とを有する樹脂(A1); 式(a1-1)で表される構造単位及び式(a1-2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種を有し、分子内にフッ素原子を有さない樹脂(A2); 酸発生剤(B);並びに、 式(I)で表される化合物(I)を含有するレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/32 ,  C08F 220/22 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/32 ,  C08F220/22 ,  H01L21/30 502R
Fターム (50件)：
2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096EA05 ,  2H096GA04 ,  2H125AF11P ,  2H125AF16P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF27P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH24 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA15P ,  4J100BB12P ,  4J100BB18P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC03R ,  4J100BC04P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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