特許
J-GLOBAL ID：201403050019215094

ターゲット供給装置、チャンバ、および、極端紫外光生成装置

発明者：
梅田 博

梅田 博 について

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山崎 卓

山崎 卓 について

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溝口 計

溝口 計 について

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西坂 敏博

西坂 敏博 について


出願人/特許権者：
ギガフォトン株式会社

ギガフォトン株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人樹之下知的財産事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-145346
公開番号（公開出願番号）：特開2014-010954
出願日： 2012年06月28日
公開日（公表日）： 2014年01月20日
要約：
【課題】ターゲット供給器をチャンバから取り外す際に、ターゲット物質の飛散を抑制しうるターゲット供給装置を提供すること。【解決手段】ターゲット物質とレーザ光とを導入して極端紫外光の生成が行われるチャンバ2に装着されるターゲット供給装置7Aであって、ノズル723Aを有するターゲット生成器72Aと、前記ノズル723Aを覆う第1配管75Aと、前記ターゲット物質が通過するように前記第1配管75Aに設けられたカバー開口部752Aと、前記カバー開口部752Aを開閉するように構成された第1バルブV1とを含んでもよい。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ターゲット物質とレーザ光とを導入して極端紫外光の生成が行われるチャンバに装着されるターゲット供給装置であって、 ノズルを有するターゲット生成器と、 前記ノズルを覆うカバーと、 前記ターゲット物質が通過するように前記カバーに設けられたカバー開口部と、 前記カバー開口部を開閉するように構成されたカバー用開閉部と、を含むターゲット供給装置。
IPC (2件)：
H05G 2/00 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
H05G1/00 K ,  H01L21/30 531S
Fターム (9件)：
4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB19 ,  4C092AC09 ,  4C092BD05 ,  4C092BD18 ,  5F146GA21 ,  5F146GC12 ,  5F146GC14
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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