特許
J-GLOBAL ID：200903046470631339

LPP型EUV光源装置

発明者：
今井 陽介

今井 陽介 について


出願人/特許権者：
株式会社小松製作所

株式会社小松製作所 について

, 
ギガフォトン株式会社

ギガフォトン株式会社 について


代理人 (3件)： 宇都宮 正明 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-075696
公開番号（公開出願番号）：特開2005-268366
出願日： 2004年03月17日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】 LPP型EUV光源装置において、メンテナンスのために大気に曝す領域を減らして部品の汚染を防ぐと共に、再立ち上げ時の真空引き等の処理を迅速化する。 【解決手段】 ターゲット噴射ノズルが設けられたチャンバや、集光光学系が設けられたチャンバ等の複数のチャンバで構成し、各チャンバをバルブにて開閉可能な通路で連結し、メンテナンス時には開放する必要のある真空チャンバだけを大気開放する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
LPPターゲット材料を噴射するノズルが配置された第1真空チャンバと、 前記第1真空チャンバ内を真空排気する第1真空ポンプと、 前記第1真空チャンバと前記第1真空ポンプとを結ぶ通路の開閉を行う第1バルブと、 前記LPPターゲット材料を照射するためのレーザ光を出力するレーザ発振器と、 前記第1真空チャンバと連通していると共に、前記ノズルから噴射されるLPPターゲット材料の進行方向に設置されている第2真空チャンバであって、前記LPPターゲット材料が前記レーザ発振器から出射されたレーザ光の照射を受けてプラズマ化することによって発生したEUV光を集光する集光光学系とが配置された第2真空チャンバと、 前記第2真空チャンバ内を真空排気する第2真空ポンプと、 前記第2真空チャンバと前記第2真空ポンプとを結ぶ通路の開閉を行う第2バルブと、 前記第1及び第2真空チャンバを連通する通路の開閉を行う第3のバルブと、 を具備するLPP型EUV光源装置。
IPC (6件)：
H01L21/027 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  G21K5/08 ,  H05G2/00 ,  H05H1/24
FI (6件)：
H01L21/30 531S ,  G21K5/00 Z ,  G21K5/02 X ,  G21K5/08 X ,  H05H1/24 ,  H05G1/00 K
Fターム (6件)：
4C092AA06 ,  4C092AA14 ,  4C092AA15 ,  4C092AB11 ,  4C092BD20 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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