特許
J-GLOBAL ID：201403050298988405
パターン基板の製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
三好 秀和
, 伊藤 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-214940
公開番号（公開出願番号）：特開2014-082495
出願日： 2013年10月15日
公開日（公表日）： 2014年05月08日
要約：
【課題】有機太陽電池を含む光電池または有機発光素子の光学的性能を向上させることができるパターン基板の製造方法を提供する。【解決手段】光電池または有機発光素子の基板を電解質処理する第1ステップ; 前記基板の表面にナノパーティクルを吸着させる第2ステップ; 前記ナノパーティクルをエッチングマスクとして前記基板の表面をエッチングする第3ステップ;および前記基板の表面に残されている前記ナノパーティクルを除去する第4ステップ;を含むことを特徴とするパターン基板の製造方法。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
光電池または有機発光素子の基板を電解質処理する第1ステップ;
前記基板の表面にナノパーティクルを吸着させる第2ステップ;
前記ナノパーティクルをエッチングマスクとして前記基板の表面をエッチングする第3ステップ;および
前記基板の表面に残されている前記ナノパーティクルを除去する第4ステップ;
を含むことを特徴とするパターン基板の製造方法。
IPC (5件)：
H01L 31/04
, C03C 21/00
, H01L 51/50
, H05B 33/02
, H01L 21/306
H01L31/04 M
, C03C21/00 Z
, H05B33/14 A
, H05B33/02
, H01L21/302 105A
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB02
, 3K107CC05
, 3K107DD12
, 3K107EE28
, 4G059AA08
, 4G059AC01
, 5F004AA04
, 5F004BA04
, 5F004BA11
, 5F004DA01
, 5F004DA11
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F004DB00
, 5F004DB14
, 5F004DB19
, 5F004DB31
, 5F004EA03
, 5F004EA06
, 5F004EB08
, 5F151CB21
, 5F151FA04
, 5F151GA03
, 5F151GA04
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
