特許
J-GLOBAL ID：201403054021030331

露光装置、露光方法及びデバイス製造方法

発明者：
水谷 剛之

水谷 剛之 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (2件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-271416
公開番号（公開出願番号）：特開2014-057115
出願日： 2013年12月27日
公開日（公表日）： 2014年03月27日
要約：
【課題】投影光学系と基板との間に液体を良好に保持して、精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】投影光学系PLと基板Pとの間に液体LQの液浸領域を形成し、投影光学系PLと液浸領域の液体LQとを介して基板Pを露光するものである。露光装置は、液体LQを供給する供給口12及び液体LQを回収する回収口22のうち少なくともいずれか一方を有するノズル部材70と、基板Pの位置又は姿勢に応じて、ノズル部材70の位置及び姿勢のうち少なくともいずれか一方を調整するノズル調整機構80とを備えている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
液浸領域の液体を介して前記基板を露光する露光装置において、 前記液体を供給する供給口及び前記液体を回収する回収口のうち少なくとも一方を有するノズル部材と、 前記ノズル部材と対向配置された物体の表面位置に応じて、前記ノズル部材の位置及び傾きのうち少なくとも一方を調整するノズル調整機構とを備えた露光装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 515D
Fターム (6件)：
5F146BA04 ,  5F146BA05 ,  5F146BA11 ,  5F146CB46 ,  5F146DA32 ,  5F146DA33
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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