特許
J-GLOBAL ID：200903076799579709
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-147548
公開番号（公開出願番号）：特開2005-340815
出願日： 2005年05月20日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】浸漬液およびそれに伴う液体供給系をリソグラフィ装置に導入すると、基板における焦点精度、および、画像形成にとって非常に重要なその他のパラメータを制御する精度の低下を引き起こす問題を解決する。【解決手段】液浸リソグラフィ装置は、リソグラフィ装置の投影系と基板の間の空間に液体を含むように構成された液体供給系部材、および、液体供給系部材と基板テーブルの相互作用を補償するように構成された液体供給系部材補償装置を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
放射ビームを調整するように配設された照明系と、
放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付与された放射ビームを供給することのできるパターン付与デバイスを保持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン付与された放射線ビームを前記基板の目標部分に投影するように配設された投影系と、
前記投影系と基板との間の空間に液体を含むように構成された液体供給系部材と、
前記液体供給系部材と前記基板テーブルの間の相互作用を補償するように構成された液体供給系部材補償装置とを有するリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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