プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：井上学 , 戸田裕二 , 岩崎重美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-000778
公開番号（公開出願番号）：特開2014-135305
出願日： 2013年01月08日
公開日（公表日）： 2014年07月24日
要約：

【課題】本発明は、プラズマ処理室の物理的変動によるプラズマ処理性能の変動を抑制できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】本発明は、試料をプラズマ処理するプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成させるための高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料を載置する試料台と、前記試料台に高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記試料台に印加にされた電圧と電流を検出する検出手段と、前記検出手段からの出力値を用いて前記第一の高周波電源と前記第二の高周波電源とを制御する制御装置とを備えるプラズマ処理装置において、前記制御装置は、前記検出手段により検出された電流波形のデータを用いて前記第一の高周波電源を制御するとともに前記検出手段により検出された電圧波形のデータを用いて前記第二の高周波電源を制御することを特徴とする。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

試料をプラズマ処理するプラズマ処理室と、前記プラズマ処理室内にプラズマを生成させるための高周波電力を供給する第一の高周波電源と、前記試料を載置する試料台と、前記試料台に高周波電力を供給する第二の高周波電源と、前記試料台に印加にされた電圧と電流を検出する検出手段と、前記検出手段からの出力値を用いて前記第一の高周波電源と前記第二の高周波電源とを制御する制御装置とを備えるプラズマ処理装置において、前記制御装置は、前記検出手段により検出された電流波形のデータを用いて前記第一の高周波電源を制御するとともに前記検出手段により検出された電圧波形のデータを用いて前記第二の高周波電源を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 , H05H 1/46 , H05H 1/00

FI (3件)：

H01L21/302 101D , H05H1/46 C , H05H1/00 A

Fターム (5件)：

5F004AA01 , 5F004BA14 , 5F004CA03 , 5F004CB05 , 5F004CB20

引用特許：

審査官引用 (4件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-217157 出願人：株式会社日立製作所
プラズマ処理方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-179987 出願人：松下電器産業株式会社
プロセスの状態を識別する方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-087586 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド

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