特許
J-GLOBAL ID:201403056491833972

成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人クシブチ国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-029687
公開番号(公開出願番号):特開2014-159607
出願日: 2013年02月19日
公開日(公表日): 2014年09月04日
要約:
【課題】成膜材料の利用効率を高めた成膜装置を提供する。【解決手段】微粒子状の成膜材料である微粒子材料3を溶かして基材2に成膜する成膜装置1において、微粒子材料3を基材2の成膜位置Pに向けて供給する供給機構21と、成膜材料を加熱溶融するレーザー光15を基材2の成膜位置Pに向けて供給する処理媒体供給機構10と、基材2の成膜位置Pを通過した微粒子材料3を回収する回収機構25と、を備えた。【選択図】図1
請求項(抜粋):
微粒子状の成膜材料を溶かして基材に成膜する成膜装置において、 前記成膜材料を前記基材の成膜位置に向けて供給する供給機構と、 前記成膜材料を加熱溶融する処理媒体を前記基材の成膜位置に向けて供給する処理媒体供給機構と、 前記基材の成膜位置を通過した前記成膜材料を回収する回収機構と、 を備えたことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件):
C23C 4/12 ,  C23C 24/08
FI (2件):
C23C4/12 ,  C23C24/08 A
Fターム (21件):
4K031AA02 ,  4K031AA06 ,  4K031AB08 ,  4K031CB41 ,  4K031CB45 ,  4K031CB51 ,  4K031DA08 ,  4K031EA06 ,  4K031EA07 ,  4K031EA09 ,  4K031EA11 ,  4K044AA01 ,  4K044AA11 ,  4K044BA01 ,  4K044BA11 ,  4K044BC01 ,  4K044BC02 ,  4K044BC11 ,  4K044BC14 ,  4K044CA41 ,  4K044CA44
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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