粒子線治療システム

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：春日讓 , 猪野木雄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-014153
公開番号（公開出願番号）：特開2014-144122
出願日： 2013年01月29日
公開日（公表日）： 2014年08月14日
要約：

【課題】スキャニング照射法を用いた粒子線治療システムにおいて、コストの増加、短飛程領域外でのペナンブラ増加、操作者の負担増加を伴うことなく、短飛程領域でのペナンブラを改善する。【解決手段】粒子線治療システムはエネルギー吸収体302、第一のコリメータ303及び第二のコリメータ304で構成される短飛程領域への照射補償装置101を備えた。照射補償装置101はエネルギー吸収体302、第一のコリメータ303及び第二のコリメータ304の着脱機構を備えることを特徴とする。第一のコリメータ303は、ビーム径の小さな上流側に配置することで補償装置101の横幅を抑えることができ、補償装置101の小型・軽量化に寄与する。第二のコリメータは304、下流側に設置することでペナンブラの改善に寄与する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

粒子線治療システムであって、スキャニング照射法により照射野を形成する照射野形成装置と、エネルギー吸収体、第一のコリメータ、第二のコリメータ、前記エネルギー吸収体、前記第一のコリメータ及び前記第二のコリメータの着脱機構を有する短飛程領域への照射補償装置とを備え、前記照射野形成装置は、前記照射補償装置の着脱機構を有したことを特徴とする粒子線治療システム。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (1件)：

A61N5/10 J

Fターム (4件)：

4C082AC05 , 4C082AE02 , 4C082AG21 , 4C082AG51

引用特許：

審査官引用 (6件)

陽子放出治療用システム
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-509893 出願人：パウル・シェラー・インスティトゥート
荷電粒子線照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-086554 出願人：住友重機械工業株式会社
放射線の照射野形成部材固定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-213240 出願人：住友重機械工業株式会社

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