特許
J-GLOBAL ID:201003093458640348

粒子線照射装置及び治療計画装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 高矢 諭 ,  松山 圭佑 ,  牧野 剛博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-197706
公開番号(公開出願番号):特開2010-029594
出願日: 2008年07月31日
公開日(公表日): 2010年02月12日
要約:
【課題】スキャニング照射における照射野半影帯を縮小し、正常組織への線量寄与を小さくする。【解決手段】粒子線をスキャニング照射するための粒子線照射装置において、複数のビーム形状を設定するためのビーム形状設定手段(コリメータ32、散乱体34、リッジフィルタ36)と、スキャニング途中でビーム形状を変更するための手段(コリメータ制御装置33、散乱体制御装置35、フィルタ制御装置37)と、を備え、スキャニングポイントに適したビーム形状を選択しながらスキャニング照射する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
粒子線をスキャニング照射するための粒子線照射装置において、 複数のビーム形状を設定するためのビーム形状設定手段と、 スキャニング途中でビーム形状を変更するための手段と、 を備え、 スキャニングポイントに適したビーム形状を選択しながらスキャニング照射することを特徴とする粒子線照射装置。
IPC (1件):
A61N 5/10
FI (2件):
A61N5/10 M ,  A61N5/10 P
Fターム (6件):
4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG24 ,  4C082AN05 ,  4C082AR02
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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