特許
J-GLOBAL ID：201403063208183556
反射型マスクおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
廣瀬 一
, 宮坂 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-247419
公開番号（公開出願番号）：特開2014-096483
出願日： 2012年11月09日
公開日（公表日）： 2014年05月22日
要約：
【課題】反射型マスクの反射特性を損なうことなく、微細なマスクパターンが形成可能な反射型マスクとその製造方法を提供する。【解決手段】反射基板11上にマスクパターン1が設けられ、反射基板11とマスクパターン1の表面は面一であり、反射基板11の表面には保護膜50を有する。反射基板11は、表層部が多層反射膜20により構成されている。基板10の一方側表面から多層反射膜20を積層し、多層反射膜20の上にレジスト40を塗布し、レジスト40をパターニングしたマスクパターン1の上から多層反射膜20をエッチングしてマスクパターン1の逆パターンを多層反射膜20に形成し、レジスト40を剥離し、パターニングされた多層反射膜20の表面に保護膜50を成膜し、成膜された保護膜50の上に光吸収膜60を成膜し、その光吸収膜60を保護膜50の表面と面一になるようにエッチングまたは研磨する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
反射基板の上面に所定のマスクパターンが設けられ、前記反射基板の表面と前記マスクパターンの表面とは面一であり、前記反射基板の表面には保護膜を有することを特徴とする反射型マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531M
, G03F1/24
2H095BA10
, 2H095BC19
, 5F146GA21
, 5F146GD07
, 5F146GD22
