反射型露光用マスク、反射型露光用マスクの製造方法、反射型露光用マスクの検査方法、及び反射型露光用マスクの洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (19件)：蔵田昌俊 , 河野哲 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 勝村紘 , 河井将次 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓 , 市原卓三 , 山下元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-289633
公開番号（公開出願番号）：特開2011-129843
出願日： 2009年12月21日
公開日（公表日）： 2011年06月30日
要約：

【課題】容易に反射型露光用マスクに堆積されたコンタミを判定することが可能な反射型露光用マスク等を提供する。【解決手段】支持基板100上に形成され、露光光を吸収する低反射加工パターンと露光光を反射する反射多層膜101とを有する第1の層と、反射多層膜101上に形成され、露光光を吸収する吸収体層120を有する第2の層とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に形成され、露光光を吸収する第1の光吸収部と露光光を反射する光反射部とを有する第1の層と、前記光反射部上に形成され、露光光を吸収する第2の光吸収部を有する第2の層とを備えることを特徴とする反射型露光用マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

FI (2件)：

H01L21/30 531M , G03F1/16 A

Fターム (13件)：

2H095BA10 , 2H095BB36 , 2H095BD05 , 5F046GD10 , 5F046GD15 , 5F046GD16 , 5F046GD17 , 5F046GD20 , 5F146GD00 , 5F146GD15 , 5F146GD16 , 5F146GD17 , 5F146GD20

引用特許：

審査官引用 (11件)

反射型マスク及びその作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-052198 出願人：株式会社東芝
反射型マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-317695 出願人：株式会社東芝, 株式会社ルネサステクノロジ
特公平6-066251

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