特許

J-GLOBAL ID：201403064872674458

金属化合物

発明者： 水野 哲孝 ,  鈴木 康介 ,  菊川 雄司 ,  米原 宏司 ,  住田 康隆 ,  山▲崎▼ 勇英
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 特許業務法人 安富国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-097978
公開番号（公開出願番号）：特開2014-217802
出願日： 2013年05月07日
公開日（公表日）： 2014年11月20日
要約：

【課題】 新しい機能性材料等として有望な新規な金属化合物を提供する。【解決手段】 欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物由来の構造部位を少なくとも1つ有する金属化合物であって、該ヘテロポリオキソメタレート化合物は、ヘテロ原子に対してポリ原子が酸素原子を介して配位した構造を有し、該金属化合物は、一欠損構造部位、二欠損構造部位及び三欠損構造部位からなる群より選択される少なくとも1つの欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物由来の構造部位を有し、ヘテロ原子及びポリ原子とは異なる金属原子を含み、該一欠損又は二欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物は、P、Si、Ge及びZnからなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を含み、該三欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物は、P、Si及びGeからなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を含み、該金属原子は、ランタノイド、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Znからなる群より選択される少なくとも1種の原子であることを特徴とする金属化合物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物由来の構造部位を少なくとも1つ有する金属化合物であって、 該ヘテロポリオキソメタレート化合物は、ヘテロ原子に対してポリ原子が酸素原子を介して配位した構造を有し、 該金属化合物は、一欠損構造部位、二欠損構造部位及び三欠損構造部位からなる群より選択される少なくとも1つの欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物由来の構造部位を有し、ヘテロ原子及びポリ原子とは異なる金属原子を含み、 該一欠損又は二欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物は、P、Si、Ge及びZnからなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を含み、 該三欠損構造部位含有ヘテロポリオキソメタレート化合物は、P、Si及びGeからなる群より選択される少なくとも1種のヘテロ原子を含み、 該金属原子は、ランタノイド、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Znからなる群より選択される少なくとも1種の原子であることを特徴とする金属化合物。

IPC (5件)：

B01J 31/02 ,  C01B 25/45 ,  C07C 211/63 ,  C01G 41/00 ,  C01B 33/20

FI (5件)：

B01J31/02 102Z ,  C01B25/45 Z ,  C07C211/63 ,  C01G41/00 B ,  C01B33/20

Fターム (57件)：

4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05 ,  4G048AE08 ,  4G073BA17 ,  4G073BA30 ,  4G073BA32 ,  4G073BA36 ,  4G073BA40 ,  4G073BA44 ,  4G073BA48 ,  4G073BA49 ,  4G073BA52 ,  4G073BB06 ,  4G073BB48 ,  4G073UA03 ,  4G073UB29 ,  4G169AA02 ,  4G169AA03 ,  4G169BB07A ,  4G169BB07B ,  4G169BC23A ,  4G169BC23B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC32A ,  4G169BC32B ,  4G169BC35A ,  4G169BC35B ,  4G169BC41A ,  4G169BC44A ,  4G169BC44B ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169BC62A ,  4G169BC62B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BC67A ,  4G169BC67B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BD05A ,  4G169BD05B ,  4G169BD07A ,  4G169BD07B ,  4G169CB07 ,  4G169CB21 ,  4G169DA02 ,  4G169DA06 ,  4G169EC22X ,  4G169EC22Y ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB91

引用特許：

審査官引用 (4件)

• オレフィン化合物の酸化生成物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-258538   出願人：旭化成株式会社, 財団法人野口研究所
• アルカンの酸化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-132472   出願人：三菱化学株式会社
• 酸塩基反応、酸化物分解反応及び酸化反応用ヘテロポリオキソメタレート化合物触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-323906   出願人：株式会社日本触媒
• ヘテロポリオキソメタレート化合物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-352121   出願人：株式会社日本触媒