特許
J-GLOBAL ID：201403067081948502
コバルトの化学機械研磨用スラリー
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲葉 民安
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-523470
公開番号（公開出願番号）：特表2014-509064
出願日： 2011年12月05日
公開日（公表日）： 2014年04月10日
要約：
本発明はコバルトの化学機械研磨用スラリーを開示する。このスラリーは、重量比で阻害剤0.01〜2%、酸化剤0〜5%、研磨剤0.1〜10%、錯化剤0.001〜10%、及び残部の水の各成分を含む。スラリーのpH値はpH値調整剤により3〜5に調整する。上記阻害剤は硫黄原子と窒素原子の両方、或いは硫黄原子か窒素原子のいずれかを含む五員複素環化合物の1種類又は複数種類から選択される。上記酸化剤はH2O2、(NH4)2S2O8、KIO4、及びKClO5の1種類又は複数種類から選択される。上記研磨剤はSiO2、CeO2、及びAl2O3の1種類又は複数種類から選択される。上記錯化剤はアミノ酸及びクエン酸の1種類又は複数種類から選択される。本発明のスラリーは、研磨プロセスにおけるコバルトの腐食を効果的に防止し、コバルトの研磨速度を低下させる。
請求項（抜粋）：
重量比で阻害剤0.01〜2%、酸化剤0〜5%、研磨剤0.1〜10%、錯化剤0.001〜10%、及び残部の水の各成分を含み、pH値はpH値調整剤により3〜5に調整されているコバルトの化学機械研磨用スラリーであって、
前記阻害剤は硫黄原子と窒素原子の両方、或いは硫黄原子か窒素原子のいずれかを含む五員複素環化合物の1種類又は複数種類から選択され、
前記酸化剤はH2O2、(NH4)2S2O8、KIO4、及びKClO5の1種類又は複数種類から選択され、
前記研磨剤はSiO2、CeO2、及びAl2O3の1種類又は複数種類から選択され、
前記錯化剤はアミノ酸及びクエン酸の1種類又は複数種類から選択される、コバルトの化学機械研磨用スラリー。
IPC (3件)：
H01L 21/304
, B24B 37/00
, C09K 3/14
H01L21/304 622D
, B24B37/00 H
, C09K3/14 550C
, C09K3/14 550Z
3C058AA07
, 3C058CA05
, 3C058CB02
, 3C058CB10
, 3C058DA02
, 3C058DA12
, 3C058DA17
, 5F057AA08
, 5F057AA28
, 5F057BA21
, 5F057BB22
, 5F057BB31
, 5F057EA01
, 5F057EA07
, 5F057EA08
, 5F057EA09
, 5F057EA16
, 5F057EA22
, 5F057EA23
, 5F057EA25
, 5F057EA26
, 5F057EA29
, 5F057EA32
