特許
J-GLOBAL ID：201403068112483151

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者：
ザール,コエン,ヤコブス,ヨハネス,マリア

ザール,コエン,ヤコブス,ヨハネス,マリア について

, 
オッテンズ,ヨースト,ヘロエン

オッテンズ,ヨースト,ヘロエン について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-257890
公開番号（公開出願番号）：特開2014-060447
出願日： 2013年12月13日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
要約：
【課題】基板を投影システム等に対して位置決めする精度を改善するシステム等を提供する。【解決手段】 基板テーブルと別個に形成されたカバープレート、およびカバープレートの温度を制御することによって基板テーブルの温度を安定化させる手段があるリソグラフィ装置を開示する。カバープレートが基板テーブルの熱遮蔽材として作用するように、カバープレートと基板テーブルの間に設けた断熱材があるリソグラフィ装置を開示する。基板テーブルの歪みを測定し、基板テーブルの歪みを参照することによって基板の位置制御を改善する手段を備えるリソグラフィ装置を開示する。【選択図】 図12
請求項（抜粋）：
基板を支持するように構成された基板テーブルと、 変調した放射ビームを基板に投影するように構成された投影システムと、 露光中に前記投影システムと基板の間の領域に液体を提供するように構成された液体供給システムと、 物理的に前記基板テーブルから分離し、露光中に前記基板の半径方向外側に位置し、前記基板に実質的に隣接し且つ同一高さにある、前記投影システムに対向する表面を提供するように構成されたカバープレートと、 前記カバープレートの一部の温度を制御することによって、対応するターゲット温度からの前記基板テーブルの一部の温度偏差を減少させるように構成された基板テーブル温度安定化デバイスと、 を含む、リソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/68
FI (6件)：
H01L21/30 515D ,  H01L21/30 515G ,  H01L21/30 516E ,  H01L21/30 516B ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/68 K
Fターム (34件)：
5F131AA02 ,  5F131BA13 ,  5F131CA02 ,  5F131EA02 ,  5F131EA22 ,  5F131EA27 ,  5F131EB01 ,  5F131EB11 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79 ,  5F131EB81 ,  5F131EB82 ,  5F131EB87 ,  5F131FA17 ,  5F131FA37 ,  5F131JA14 ,  5F131KA16 ,  5F131KA24 ,  5F131KB07 ,  5F146BA03 ,  5F146BA11 ,  5F146CB46 ,  5F146CC01 ,  5F146CC03 ,  5F146CC13 ,  5F146CC15 ,  5F146CC16 ,  5F146DA07 ,  5F146DA26 ,  5F146DA34 ,  5F146DB02 ,  5F146DB05 ,  5F146DB10 ,  5F146DC12
引用特許：
審査官引用 (4件)
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