特許
J-GLOBAL ID:201403069519130799

樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 植木 久一 ,  植木 久彦 ,  菅河 忠志 ,  伊藤 浩彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-190471
公開番号(公開出願番号):特開2014-078000
出願日: 2013年09月13日
公開日(公表日): 2014年05月01日
要約:
【課題】形状に優れるネガ型レジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。【解決手段】本発明のレジスト組成物は、式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂と、酸発生剤とを含有する。 [式(I)中、 R1は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。 L1及びL2は、それぞれ独立に、炭素数1〜6のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。 X1は、酸素原子、カルボニルオキシ基、オキシカルボニルオキシ基又は-O-CH2-CO-を表す。 R2は、炭素数1〜6のアルキル基を表す。 mは0〜5の整数を表し、mが2以上のとき、複数のR2は同一又は相異なる。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(I)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。
IPC (3件):
G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  C08F 220/28
FI (3件):
G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  C08F220/28
Fターム (47件):
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF27P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AF70P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA15S ,  4J100BA15T ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許:
審査官引用 (6件)
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