ナノインプリントリソグラフィ用マスクおよびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：山下昭彦 , 岸本達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-265638
公開番号（公開出願番号）：特開2014-033173
出願日： 2012年12月04日
公開日（公表日）： 2014年02月20日
要約：

【課題】本発明は、欠陥部を感度良く検出できるナノインプリントリソグラフィ用マスクを提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、意図的に形成された設計欠陥部を有することを特徴とするナノインプリントリソグラフィ用マスクを提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

意図的に形成された設計欠陥部を有することを特徴とするナノインプリントリソグラフィ用マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , B29C 59/16

FI (2件)：

H01L21/30 502D , B29C59/16

Fターム (12件)：

4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AJ03 , 4F209AK03 , 4F209AM32 , 4F209AR12 , 4F209PA15 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 5F146AA31

引用特許：

出願人引用 (9件)

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審査官引用 (9件)

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