特許

J-GLOBAL ID：201403072427712059

リソグラフィ投影装置

発明者： ヨエリ ロフ ,  エリク テオドルス マリア ビユラールト ,  ハンス ブトレル ,  シュオエルド ニコラース ラムベルトゥス ドンデルス ,  クリスティアーン アレクサンデル ホーゲダム ,  アレクセイ コレスニチェンコ ,  エリク ローロフ ロープストラ ,  ヘンドリクス ヨハンネス マリア メイユエール ,  イエローン ヨハンネス ソフィア マリア メルテンス ,  ヨハンネス カタリヌス フベルトゥス ムルケンス ,  ローロフ アエイコ シーブランド リトセマ ,  フランク ファン スカイク ,  ティモテウス フランシスカス センゲルス ,  クラウス シモン ,  ヨハンネス テオドール デ スミット ,  アレクサンデル ストラーイユエール ,  ボブ ストレーフケルク ,  ヘルマール ファン サンテン
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-027270
公開番号（公開出願番号）：特開2012-119720
特許番号：特許第5400910号
出願日： 2012年02月10日
公開日（公表日）： 2012年06月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 オブジェクトテーブル上のオブジェクトと投影システムとの間の空間を少なくとも部分的に液体で充填する液体供給システムと、 前記オブジェクトの縁を少なくとも部分的に囲み、前記投影システムに面して前記オブジェクトの1次表面とほぼ同一平面上にある1次表面を提供する縁密封部材と、 を有し、 前記オブジェクトテーブルは、 前記縁密封部材および前記オブジェクトの縁部分の近傍で、前記縁密封部材および前記オブジェクトの前記投影システムとは反対側にある疎水性層と、 前記縁密封部材と前記投影システムとは反対側にある前記オブジェクトとの間のギャップに真空を供給するよう配置された真空孔と、を備える、 リソグラフィ投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 515 G ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-274812   出願人：株式会社ニコン
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-044893   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 液浸式投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-339510   出願人：キヤノン株式会社
• 液浸型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン