特許
J-GLOBAL ID:201403074281160990
ベルジャおよび真空処理装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
速水 進治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-079900
公開番号(公開出願番号):特開2014-201803
出願日: 2013年04月05日
公開日(公表日): 2014年10月27日
要約:
【課題】ベルジャの構造的強度を向上する。【解決手段】ベルジャ10は、チャンバ110内を陰圧にして処理対象物に対して所定の処理を行うための真空処理装置100のチャンバ110を構成する石英ガラス製のものである。ベルジャ10は、下端が開放した釣り鐘型の本体部11と、本体部11の下端に沿って形成されたフランジ部12と、本体部11の側面11aにおいてフランジ部12よりも上側の部位に形成され、本体部11の周方向に沿って延在する突条部13と、を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
チャンバ内を陰圧にして処理対象物に対して所定の処理を行うための真空処理装置の前記チャンバを構成する石英ガラス製のベルジャであって、
下端が開放した釣り鐘型の本体部と、
前記本体部の下端に沿って形成されたフランジ部と、
前記本体部の側面において前記フランジ部よりも上側の部位に形成され、前記本体部の周方向に沿って延在する突条部と、
を有するベルジャ。
IPC (2件):
FI (2件):
C23C16/44 B
, H01L21/31 E
Fターム (14件):
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030EA03
, 4K030EA11
, 4K030FA10
, 4K030KA09
, 4K030KA22
, 4K030KA28
, 4K030LA15
, 5F045AB39
, 5F045CA09
, 5F045EB19
, 5F045EC01
, 5F045HA16
引用特許:
出願人引用 (7件)
-
薄膜形成装置および薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-041492
出願人:株式会社東芝
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-212271
出願人:株式会社日立国際電気
-
CVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-233412
出願人:富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
全件表示
審査官引用 (9件)
-
半導体装置の製造方法およびプラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-351106
出願人:松下電器産業株式会社
-
薄膜形成装置および薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-041492
出願人:株式会社東芝
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-212271
出願人:株式会社日立国際電気
-
CVD装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-233412
出願人:富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
-
熱処理装置の炉口構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-041567
出願人:光洋サーモシステム株式会社
-
特開昭59-098520
-
特開昭59-098520
-
特開昭52-034669
-
特開昭52-034669
全件表示
前のページに戻る