感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイス

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：高松猛 , 尾澤俊之 , 長谷川博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-054400
公開番号（公開出願番号）：特開2014-041327
出願日： 2013年03月15日
公開日（公表日）： 2014年03月06日
要約：

【課題】スペース幅100nm以下の微細な孤立スペースパターン形成においては、感度、解像力、スペースウィズスラフネスに優れ、微細な孔径(例えば、50nm以下)を有するホールパターンを形成する場合においては、高解像力、良好なEL、局所的なパターン寸法の均一性(Local-CDU)に優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。【解決手段】下記一般式(1-1)で表される繰り返し単位と、下記一般式(1-2)で表される繰り返し単位とを有する樹脂(A)を含有し、下記一般式(1-1)で表される繰り返し単位の含有量が、樹脂(A)の全繰り返し単位に対して35モル%以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1-1)で表される繰り返し単位と、下記一般式(1-2)で表される繰り返し単位とを有する樹脂(A)を含有し、下記一般式(1-1)で表される繰り返し単位の含有量が、樹脂(A)の全繰り返し単位に対して35モル%以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 , G03F 7/038 , H01L 21/027 , C08F 212/14 , C08F 2/46

FI (5件)：

G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R , C08F212/14 , C08F2/46

Fターム (96件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF19P , 2H125AF21P , 2H125AF34P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH04 , 2H125AH05 , 2H125AH06 , 2H125AH07 , 2H125AH12 , 2H125AH14 , 2H125AH22 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ12Y , 2H125AJ13Y , 2H125AJ14X , 2H125AJ14Y , 2H125AJ18Y , 2H125AJ43Y , 2H125AJ44Y , 2H125AJ48Y , 2H125AJ49Y , 2H125AJ63Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ64Y , 2H125AJ65Y , 2H125AJ66Y , 2H125AJ67Y , 2H125AJ68Y , 2H125AJ69Y , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AM12P , 2H125AM13P , 2H125AM22P , 2H125AM23P , 2H125AM27P , 2H125AM66P , 2H125AM86P , 2H125AM99P , 2H125AN02P , 2H125AN11P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN57P , 2H125AN62P , 2H125AN63P , 2H125AN65P , 2H125AN67P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB08 , 2H125CB12 , 2H125CB16 , 2H125CC01 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA05 , 4J011AA01 , 4J011AA05 , 4J011AC04 , 4J011CC10 , 4J011QA04 , 4J011QA09 , 4J011UA01 , 4J011UA03 , 4J011UA04 , 4J100AB07P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA11R , 4J100BA40R , 4J100BC08R , 4J100BC09Q , 4J100BC52Q , 4J100BC52R , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-213454 出願人：富士フイルム株式会社
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-254760 出願人：信越化学工業株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、液晶表示装置、及び、有機EL表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-010697 出願人：富士フイルム株式会社

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