特許
J-GLOBAL ID:201403085746895802

偏光子のレーザー加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 籾井 孝文 ,  上野山 温子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-064218
公開番号(公開出願番号):特開2014-191050
出願日: 2013年03月26日
公開日(公表日): 2014年10月06日
要約:
【課題】偏光子に対する効率のよいレーザー加工方法を提供すること。【解決手段】二色性物質を含む樹脂フィルムから構成された偏光子にレーザー光を照射することを含む、偏光子の加工方法であって、該レーザー光が円偏光レーザー光である、加工方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
二色性物質を含む樹脂フィルムから構成された偏光子にレーザー光を照射することを含む、偏光子の加工方法であって、該レーザー光が円偏光レーザー光である、加工方法。
IPC (3件):
G02B 5/30 ,  G02F 1/133 ,  G09F 9/00
FI (3件):
G02B5/30 ,  G02F1/1335 510 ,  G09F9/00 338
Fターム (32件):
2H149AA01 ,  2H149AB01 ,  2H149BA02 ,  2H149BA12 ,  2H149BB00 ,  2H149FA03W ,  2H149FB06 ,  2H191FA21X ,  2H191FA21Z ,  2H191FA94X ,  2H191FA94Z ,  2H191FA95X ,  2H191FA95Z ,  2H191FB02 ,  2H191FB23 ,  2H191FC05 ,  2H191FC07 ,  2H191FC23 ,  2H191FC32 ,  2H191FC34 ,  2H191FC41 ,  2H191FD35 ,  2H191GA22 ,  2H191GA23 ,  2H191LA13 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435BB12 ,  5G435FF05 ,  5G435KK07 ,  5G435LL07 ,  5G435LL08
引用特許:
審査官引用 (6件)
全件表示
引用文献:
審査官引用 (1件)
  • YAGレーザ光の偏光制御による微細切断加工

前のページに戻る