特許
J-GLOBAL ID:201403085746895802
偏光子のレーザー加工方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
籾井 孝文
, 上野山 温子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-064218
公開番号(公開出願番号):特開2014-191050
出願日: 2013年03月26日
公開日(公表日): 2014年10月06日
要約:
【課題】偏光子に対する効率のよいレーザー加工方法を提供すること。【解決手段】二色性物質を含む樹脂フィルムから構成された偏光子にレーザー光を照射することを含む、偏光子の加工方法であって、該レーザー光が円偏光レーザー光である、加工方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
二色性物質を含む樹脂フィルムから構成された偏光子にレーザー光を照射することを含む、偏光子の加工方法であって、該レーザー光が円偏光レーザー光である、加工方法。
IPC (3件):
G02B 5/30
, G02F 1/133
, G09F 9/00
FI (3件):
G02B5/30
, G02F1/1335 510
, G09F9/00 338
Fターム (32件):
2H149AA01
, 2H149AB01
, 2H149BA02
, 2H149BA12
, 2H149BB00
, 2H149FA03W
, 2H149FB06
, 2H191FA21X
, 2H191FA21Z
, 2H191FA94X
, 2H191FA94Z
, 2H191FA95X
, 2H191FA95Z
, 2H191FB02
, 2H191FB23
, 2H191FC05
, 2H191FC07
, 2H191FC23
, 2H191FC32
, 2H191FC34
, 2H191FC41
, 2H191FD35
, 2H191GA22
, 2H191GA23
, 2H191LA13
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435BB12
, 5G435FF05
, 5G435KK07
, 5G435LL07
, 5G435LL08
引用特許:
引用文献:
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