特許
J-GLOBAL ID：201403089221265447

プラズマ処理装置用部品及びプラズマ処理装置

発明者：
小林 義之

小林 義之 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 別役 重尚 ,  村松 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-161527
公開番号（公開出願番号）：特開2014-022261
出願日： 2012年07月20日
公開日（公表日）： 2014年02月03日
要約：
【課題】熱容量が小さく、気密性を備えると共にパーティクルの発生を抑制したプラズマ処理装置用部品を提供する。【解決手段】プラズマエッチング処理装置が備える上部電極板40を、カーボンからなる基材50と、基材50の表面に設けられるSiC被膜51と、SiC被膜51の表面に設けられるガス遮断性を有するガラス被膜52と、プラズマが生成される空間に対向するガラス被膜52の表面に設けられるセラミックスからなる溶射被膜53からなる構成とする。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板に対して所定のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置が備えるチャンバの内部に設けられるプラズマ処理装置用部品であって、 カーボンからなる基材と、 前記基材の表面に設けられるSiC被膜と、 前記SiC被膜の表面に設けられる、ガス遮断性を有するガラス被膜と、 前記ガラス被膜の表面に設けられる、セラミックスからなる溶射被膜と、を有することを特徴とするプラズマ処理装置用部品。
IPC (3件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/44
FI (4件)：
H05H1/46 M ,  H01L21/302 101L ,  H01L21/302 101B ,  C23C16/44 B
Fターム (14件)：
4K030FA03 ,  4K030KA14 ,  4K030KA47 ,  5F004AA14 ,  5F004BA09 ,  5F004BB11 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004CA06
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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