特許
J-GLOBAL ID:201403098597689859
ふっ素原子を含有する多孔高分子錯体、これを用いたガス吸着材ならびにガス分離装置およびガス貯蔵装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 亀松 宏
, 永坂 友康
, 小林 良博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-039968
公開番号(公開出願番号):特開2014-166970
出願日: 2013年02月28日
公開日(公表日): 2014年09月11日
要約:
【課題】新規な高分子金属集積体及びこれを用いた優れた特性を有するガス吸着材を提供すること。前記特性を有するガス吸着材を内部に収容してなるガス貯蔵装置およびガス分離装置を併せて提供すること。【解決手段】次式(1) [MXYq]n (1)(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xはパーフルオロアルキルが5位に置換したイソフタル酸アニオンで、Yは補助配位子。qは1〜3。nは、[MXYq]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)で表され、1次元鎖状構造が集積し、置換基のパーフルオロアルキルが凝集部を有していることを特徴とする新規な高分子金属集積体と、それのガス吸着材としての利用ならびにこれを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(1)
[MXYq]n (1)
(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xはパーフルオロアルキルが5位に置換したイソフタル酸アニオンで、Yは補助配位子。qは1〜3。nは、[MXYq]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)
で表され、金属イオンとXのカルボキシル基や補助配位子Yが錯形成することで形成された、パーフルオロアルキルが置換した1次元鎖状構造を有している高分子金属集積体。
IPC (6件):
C07F 1/08
, B01D 53/02
, B01J 20/26
, C07F 3/06
, C07C 63/24
, F17C 11/00
FI (6件):
C07F1/08 B
, B01D53/02 Z
, B01J20/26 A
, C07F3/06
, C07C63/24
, F17C11/00 A
Fターム (29件):
3E172AA02
, 3E172AA09
, 3E172AB20
, 3E172BA01
, 3E172BD03
, 3E172BD05
, 3E172FA07
, 4D012BA01
, 4D012CA03
, 4D012CA05
, 4D012CG01
, 4D012CG02
, 4G066AC11B
, 4G066AC33B
, 4G066AD13B
, 4G066BA31
, 4G066BA36
, 4G066CA35
, 4G066CA37
, 4G066DA01
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB90
, 4H048AA01
, 4H048AA03
, 4H048AB90
, 4H048VA32
, 4H048VA56
, 4H048VA66
引用特許: