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J-GLOBAL ID：201502204918572435   整理番号：15A1241805

集束イオンビーム(FIB)打ち込みによる機能性電気機械ナノ細線共振器の製造

Fabrication of functional electromechanical nanowire resonators by focused ion beam (FIB) implantation

著者 (5件)： LLOBET J. (CSIC, Catalonia, ESP) ,  GERBOLES M. (CSIC, Catalonia, ESP) ,  SANSA M. (CSIC, Catalonia, ESP) ,  BORRISE X. (Inst. Catala de Nanociencia i Nanotecnologia (ICN2), Catalonia, ESP) ,  PEREZ-MURANO F. (CSIC, Catalonia, ESP)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9423  ページ： 94230K.1-94230K.7  発行年： 2015年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文において,実験のためのプロトタイプ素子に役立つナノ機械構造体のすばやく,臨機応変な製造方法を提示している。それは,ナノリソグラフィの手段としてガリウムイオン(Ga⁺)集束ビームの照射をシリコン表面に実施した後,反応性イオンエッチング(RIE)あるいはウエットエッチングによりシリコン加工するものである。この手法により,宙ずり構造のシリコンナノ細線を作成することもできる。このようにして作成した宙ずり構造体は高抵抗であったが,ボロン雰囲気での高温後処理加熱工程を最後に実施すると,抵抗率を10^-4Ω・mオーダーまで劇的に改善することができることが確認できており,宙ずり梁構造体の電気機械特性を電気的方法で研究することが可能である。著者等は,長さ3.75μm,幅125nm,厚さ40nmのナノ細線が,長さ1.55μm,幅3.3μm,厚さ40nmの同一の2つの膜の間に渡された結合系の周波数変調(FM)法での周波数応答測定を行い,5~60MHzの範囲にいくつかの電気機械的ピークを見出した。

シソーラス用語： *集束イオンビーム ,  *MEMS ,  *ナノワイヤ ,  微小共振器 ,  *ガリウム ,  *イオン注入 ,  *ケイ素 ,  選択腐食 ,  ホウ素 ,  ドーピング ,  電気伝導率 ,  *リソグラフィー ,  *ナノメータ加工 ,  電子ビームリソグラフィー ,  RIE【エッチング】 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察
準シソーラス用語： NEMS ,  ナノリソグラフィー

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  共振器  (NC04050Y)

タイトルに関連する用語 (7件)： 集束イオンビーム ,  FIB ,  打ち込み ,  機能性 ,  電気機械 ,  ナノ細線 ,  共振器